专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械研磨设备，包括：顶部表面平行的晶圆、研磨垫、第一电极板和第二电极板。第一和第二电极板形成电极板对，第一和第二电极板之间为极板间空间。在晶圆和研磨垫之间的空间为研磨空间。晶圆、研磨垫和研磨空间位于极板间空间。研磨空间中具有带电荷的研磨材料。电极板对之间的电压可调，电极板对之间的电压用于调节研磨材料的分布并从而调节研磨速率。本发明还公开了一种化学机械研磨方法。本发明能改善研磨速率调节精度，从而能提高研磨均匀性，还能实现原子级研磨。